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荷蘭擴大對光刻機管制 中方籲尊重市場原則契約精神分享到：
      香港中通社9月8日電 荷蘭6日宣布，在2023年半導體出口管制措施的基礎上，進一步擴大對光刻機的管制範圍。中方8日對此表示不滿。
中國商務部新聞發言人當天表示，中方注意到荷方相關情況。近來，中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。近年來，美國為維護自身全球霸權，不斷泛化國家安全概念，脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施，嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定，嚴重損害相關國家和企業正當權益，中方對此堅決反對。 發言人表示，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。 荷蘭6日公布出口管制新規，規定該國半導體設備製造商阿斯麥（ASML）須向荷蘭政府申請出口許可證，才能將公司舊款深紫外浸沒式光刻系統運往中國。新規則已於7日生效。此前，阿斯麥首席執行官克里斯托夫·富凱4日曾表示，美國以國家安全的名義限制該公司向中國客戶出口產品，但動機已越來越趨於“經濟考慮”。（完） 相關新聞
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